- Ваша корзина пуста
- Продолжайте Делать Покупки
Система электронно-лучевой литографии JBX-3200MVS
JBX-3200MVS — это система электронно-лучевой литографии с изменяемой формой для создания масок с размерами от 32 до 28 нм. Передовые технологии обеспечивают высокую скорость, точность и надежность. Эта система использует электронный пучок с изменяемой формой и напряжением 50 кВ и столик образца с пошаговым перемещением.
Производитель: JEOL
JBX-3200MVS — это система электронно-лучевой литографии с изменяемой формой для создания масок с размерами от 32 до 28 нм. Передовые технологии обеспечивают высокую скорость, точность и надежность. Эта система использует электронный пучок с изменяемой формой и напряжением 50 кВ и столик образца с пошаговым перемещением.
Функции
Используя преимущества метода пошагового и повторяющегося письма, эта система EB сочетает в себе различные функции, такие как функция модуляции дозы письма и функция наложения письма, что позволяет поддерживать разнообразные корректировки, необходимые для создания шаблонов на старых масках и сетках.
Магазины масок, принадлежащие владельцам, и магазины масок-конкурентов в Японии и за рубежом
(имена клиентов не разглашаются).
Магазины масок, принадлежащие владельцам, и магазины масок-конкурентов в Японии и за рубежом
(имена клиентов не разглашаются).
Характеристики
| Точность стежка | ≦±3,5 нм |
|---|---|
| Точность наложения | ≦±5 нм |
Не нашли то, что искали?
Мы можем подобрать вариант, который обязательно Вам понравится!
Заполните форму и мы ответим вам в ближайшее время.
