JBX-3050MV/S — это система электронно-лучевой литографии с изменяемой формой луча для масок и фотошаблонов с нормой узла до 45 нм. Передовые технологии обеспечивают высокую скорость, точность и надежность. Эта система использует электронный луч с изменяемой формой луча напряжением 50 кВ и шаговый механизм.
Функции
JBX-3050MV/S — это система электронно-лучевой литографии для изготовления масок/сеток, соответствующая норме проектирования 45 нм. Система обеспечивает высокую скорость, точность и надежность печати, достигаемую благодаря передовым технологиям.


